企业等级: | 商盟会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 山东 德州 武城县 |
联系卖家: | 吴宝春 先生 |
手机号码: | 13723916692 |
公司官网: | dzhhkt1234.tz1288.co.. |
公司地址: | 山东省德州市鲁权屯工业园 |
发布时间:2021-11-24 05:26:00 作者:春志空调
主要技术参数:
量 程:0~100PA
耐 压:1000Pa
动作压力:电梯前室/走道:30Pa,(复位压力:25Pa);
楼梯间/走道:50Pa,(复位压力:40Pa);
工作温度:-20 ~ 85℃
过程连接:高压和低压孔均为6mm,
长管嘴(-):连接到低压端
短管嘴(+):连接到高压端
控制器寿命: 10万次
电气等级: 24 VDC /0.3A
切 换 率: *大6次/分钟
外形尺寸:172*112*60
重 量: 360g
硅单芯片为衬底的SiC薄膜
五、SiC薄膜材料 SiC是另一种在特殊环境下使用的化合物半导体。它由碳原子和硅原子组成。利用离子注入掺杂技术将碳原子注入单晶硅内,便可获得的立方体结构的SiC。随着掺杂浓度的差异得到的晶体结构不同,可表示为β-SiC。β表示不同形态的晶体结构。用离子注入法得到的SiC材料,自身的物理、化学及电学特性优异,表现出高强度、大刚度、内部残余应力很低、化学惰性极强、较宽的禁带宽度(近乎硅的1-2倍)及较高的压阻系数的特性;因此,SiC材料能在高温下耐腐蚀、抗辐射,并具有稳定的电学性质。非常适合在高温、恶劣环境下工作的微机电选择使用。 由于SiC单晶体材料成本高,硬度大及加工难度大,所以硅单晶片为衬底的SiC薄膜就成为研究和使用的理想选择。通过离子注入,化学气相淀积(VCD)等技术,将其制在Si衬底上或者绝缘体衬底(SiCOI)上,供设计者选用。例如航空发动机、火箭、及等耐热腔体及其表面部位的压力测量,便可选用以绝缘体为衬底的SiC薄膜,作为感压元件(膜片),并制成高温压力微传感器,实现上述场合的压力测量。测压时的工作温度可达到600℃以上。
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